如果想要做目前最先进的5nm或7nm工艺芯片，除了荷兰ASML研制的EUV极紫光光刻机，全球都无法找到第二个可以替换的机器，但是未来未必没有替换的技术！

光刻机最难的部分——光刻，究竟是怎样的？

其实光刻机每个部位都是包含各种学问，但是最重要的是把复杂电路通过光刻在硅片上，这一步就是叫做“光刻”，它是怎么做的呢？

首先准备好一块晶圆，这是由硅片加工成的，然后在晶圆上涂抹上一种特制的光刻胶，再把华为或者苹果等芯片设计公司设计的以亿级为电路原件单位的芯片蓝图制作成一个掩膜，这是可以理解一种投影底片。

下一步来了，把这份芯片图转印到准备好的晶圆上，而越小的纳米单位就意味着在更小的间距里放进更多的电子元件，此时对这个投影光的要求极高，而目前最先进的就是EUV极紫外光。